mGO上の超薄膜（約40 nm）のポリフッ化ビニリデン-トリフルオロエチレン（PVDF-TrFE）膜の圧電応答測定 a)PFMの模式図 b)PFM振幅（スケールバーは1μm）および c) 導電性カンチレバー（読み取り電圧Vread = 2 V）を用いて、PVDF-NLのPFM位相を測定した ボックス状パターンに書かれた安定な双極残留分極状態を表している d) PVDF-NLのヒステリシスループ 強誘電性と大きなピエゾ応答を示している e) PFM振幅（矢印で示す180°ドメインの壁で振幅が急激に低下する） f) 箱状パターンのFE分極状態の位相プロファイル 矢印は分極方位を示す MFP-3D Origin Oxford Instruments
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Image courtesy of データご提供 豊田工業大学 吉村雅満教授
水熱法によって製作した還元型酸化グラフェンの測定例。水熱還元は、環境にやさしく、簡便で、コスト効率が高いことから、酸化グラフェン（GO）の還元に有望なアプローチである。水熱処理前の GO試料は積層構造でAFM で観察したところ、単層の厚さは0.8～0.9 nm であった（図(a)）。還元開始時にはGO層構造が見られるが還元時間が長くなるにつれて、層状構造は乱れ、クラスタリングして小さくなる。 rGOの表面形状 a)酸化グラフェン b)処理時間 30分、c)1時間、d)2時間、e)4時間、f)6時間、g)10時間 SPM Multi mode 8 (Bruker)
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プラズマ照射2分後と6分後のrGO(還元型酸化グラフェン)薄膜の高さ像と電流像、および電流像の電流プロファイル。AFM画像中の青い点線は、rGOフレークの2層目の領域を示す。照射時間2分では、2層目の領域で1層目よりも小さい電流が観測された。一方、6分間照射するとこの傾向は逆転し、2層目の領域で1層目よりも大きい電流が観測された。照射時間を長くすると、第2層は第1層よりも導電性が高くなった。プラズマ処理による還元は表面に露出した領域から行われるため、照射時間が短い場合には下層のGO層では十分な還元が行われなかったが、照射時間を長くすることで下層もプラズマにより十分に還元された。 SPM NanoNaviⅡ(日立ハイテク)
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